Керамічний електростатичний патрон широко використовується у виробництві та обробці напівпровідників для фіксації пластин. Це незамінний інструмент для високоточної обробки пластин. VeTek Semiconductor є досвідченим виробником і постачальником керамічних електростатичних патронів і може надати високоспеціалізовані продукти відповідно до потреб різних клієнтів.
Процеси виробництва напівпровідників, особливо обробка пластин, здійснюються у вакуумному середовищі, а механічне затискання пластин здійснює
певні ризики. Коли зусилля зосереджено на точці затиску, крихкі кремнієві пластини можуть відпадати на крихітні фрагменти, завдаючи серйозної шкоди виробництву пластин.
У цьому випадку кращим вибором стає керамічний електростатичний патрон, який фіксує пластину за допомогою електростатичного зусилля. Електростатична сила рівномірно діє на пластину, тому пластину можна закріпити рівно, підвищуючи точність процесу.
Згідно з відповідними дослідницькими документами, керамічний електростатичний патрон має сильнішу всмоктувальну дію, ніж інші електростатичні патрони. Наприклад, керамічний електростатичний патрон має набагато сильніше всмоктування, ніж електростатичний патрон із ПЕТ плівки.
Керамічний патрон зазвичай виготовляється з високоефективних керамічних матеріалів, таких як Al2O3, AlN або SiC, які мають високу термостійкість, ізоляцію та стійкість до корозії. Патрон Porous SiC Ceramic Chuck не тільки стабільний при екстремальних температурах, але й ефективно запобігає руйнуванню керамічного патрона E-Cack через хімічні реагенти та плазмове травлення під час виробничого процесу.
Контроль температури: Висока теплопровідність і стабільні термічні властивості керамічних матеріалів дозволяють керамічному вакуумному патрону з глинозему ефективно контролювати температуру, тим самим оптимізуючи розподіл температури під час процесу.
Адаптація до вакууму: Керамічний електростатичний патрон підходить для вакуумних середовищ, особливо в процесах низького тиску та високоточному травленні.
Низьке утворення частинок: Керамічний патрон Porous SiC Ceramic E-chack має гладку поверхню, що може зменшити забруднення частинками під час закріплення пластин і допомогти підвищити вихід продукту.
Застосування: в основному використовується у виробництві напівпровідників, знімний керамічний електростатичний патрон, що забезпечує точне позиціонування та стабільність, що дуже корисно для літографії, травлення та інших виробничих процесів обробки напівпровідникових пластин. Переконайтеся, що пластина не пошкоджена під час обробки, і покращте якість виробництва мікросхем.
VeTek SemiconductorЦехи виробництва керамічних патронів: