> Новини

Новини

Алмаз - майбутня зірка напівпровідників

Алмаз, потенційний «найкращий напівпровідник» четвертого покоління, привертає увагу в напівпровідникових підкладках завдяки своїй винятковій твердості, теплопровідності та електричним властивостям. Незважаючи на високу вартість і проблеми з виробництвом, його використання обмежується, CVD є кращим м......

Детальніше

Яка різниця між використанням карбіду кремнію (SiC) і нітриду галію (GaN)? - VeTek Semiconductor

SiC і GaN є широкозонними напівпровідниками з такими перевагами перед кремнієм, як вищі напруги пробою, більша швидкість перемикання та чудова ефективність. SiC кращий для високовольтних і потужних додатків завдяки своїй вищій теплопровідності, тоді як GaN перевершує високочастотні додатки завдяки с......

Детальніше

Принципи та технологія нанесення покриттів методом фізичного осадження з парової фази (PVD) (2/2) - VeTek Semiconductor

Електронно-променеве випаровування є високоефективним і широко використовуваним методом покриття порівняно з резистивним нагріванням, яке нагріває матеріал випаровування електронним променем, змушуючи його випаровуватися та конденсуватися в тонку плівку.

Детальніше

Принципи та технологія фізичного осадження покриття (1/2) - VeTek Semiconductor

Вакуумне покриття включає випаровування плівкового матеріалу, вакуумне транспортування та зростання тонкої плівки. Відповідно до різних методів випаровування плівкового матеріалу та процесів транспортування, вакуумне покриття можна розділити на дві категорії: PVD та CVD.

Детальніше

Що таке пористий графіт? - VeTek Semiconductor

У цій статті описано фізичні параметри та характеристики продукту пористого графіту VeTek Semiconductor, а також його конкретні застосування в обробці напівпровідників.

Детальніше

Яка різниця між покриттями з карбіду кремнію та карбіду танталу?

У цій статті аналізуються характеристики продукту та сценарії застосування покриттів з карбіду танталу та карбіду кремнію з різних точок зору.

Детальніше

<1 2 3 4 5...10 >