- English
- Español
- Português
- русский
- Français
- 日本語
- Deutsch
- tiếng Việt
- Italiano
- Nederlands
- ภาษาไทย
- Polski
- 한국어
- Svenska
- magyar
- Malay
- বাংলা ভাষার
- Dansk
- Suomi
- हिन्दी
- Pilipino
- Türkçe
- Gaeilge
- العربية
- Indonesia
- Norsk
- تمل
- český
- ελληνικά
- український
- Javanese
- فارسی
- தமிழ்
- తెలుగు
- नेपाली
- Burmese
- български
- ລາວ
- Latine
- Қазақша
- Euskal
- Azərbaycan
- Slovenský jazyk
- Македонски
- Lietuvos
- Eesti Keel
- Română
- Slovenski
- मराठी
- Srpski језик
Китай Покриття з карбіду танталу Виробник, Постачальник, Завод
VeTek semiconductor є провідним виробником матеріалів для покриття з карбіду танталу для напівпровідникової промисловості. Наші основні пропозиції продуктів включають деталі з покриттям з карбіду танталу CVD, деталі зі спеченим покриттям TaC для вирощування кристалів SiC або процесу епітаксії напівпровідників. Компанія VeTek Semiconductor пройшла стандарт ISO9001 і добре контролює якість. VeTek Semiconductor прагне стати інноватором у галузі покриття з карбіду танталу завдяки постійним дослідженням і розробці ітераційних технологій.
Основною продукцією єДефекторне кільце з покриттям з карбіду танталу, відвідне кільце з покриттям TaC, деталі півмісяця з покриттям з TaC, планетарний ротаційний диск з покриттям з карбіду танталу (Aixtron G10), тигель з покриттям TaC; кільця з покриттям TaC; пористий графіт з покриттям TaC; графітове покриття з карбіду танталу; Напрямне кільце з покриттям TaC; пластина з покриттям з карбіду танталу TaC; Вафельний токоприймач з покриттям TaC; кільце покриття TaC; Покриття TaC Graphite Cover; Частка з покриттям TaCтощо, чистота нижче 5 ppm, може задовольнити вимоги замовника.
Графітове покриття TaC створюється шляхом покриття поверхні високочистої графітової підкладки тонким шаром карбіду танталу за допомогою запатентованого процесу хімічного осадження з парової фази (CVD). Перевага показана на зображенні нижче:
Покриття з карбіду танталу (TaC) привернуло увагу завдяки своїй високій температурі плавлення до 3880°C, чудовій механічній міцності, твердості та стійкості до термічних ударів, що робить його привабливою альтернативою процесам епітаксії складних напівпровідників з вищими температурними вимогами. наприклад система Aixtron MOCVD і процес епітаксії SiC LPE. Він також має широке застосування в процесі вирощування кристалів SiC методом PVT.
Ключові характеристики:
●Температурна стабільність
●Надвисока чистота
●Стійкість до H2, NH3, SiH4,Si
●Стійкість до термозапасу
●Сильна адгезія до графіту
●Конформне покриття покриття
● Розмір до 750 мм в діаметрі (єдиний виробник в Китаї досягає такого розміру)
Додатки:
● Індуктивний нагрівач
● Резистивний нагрівальний елемент
● Тепловий екран
Покриття з карбіду танталу (TaC) на мікроскопічному поперечному зрізі:
Параметр покриття з карбіду танталу VeTek Semiconductor:
| Фізичні властивості покриття TaC | |
| Щільність | 14,3 (г/см³) |
| Питома випромінювальна здатність | 0.3 |
| Коефіцієнт теплового розширення | 6.3 10-6/К |
| Твердість (HK) | 2000 HK |
| опір | 1×10-5Ом*см |
| Термостабільність | <2500 ℃ |
| Розмір графіту змінюється | -10~-20 мкм |
| Товщина покриття | Типове значення ≥20um (35um±10um) |
Дані EDX покриття TaC：
Дані кристалічної структури покриття TaC:
| елемент | Атомний відсоток | |||
| Пт. 1 | Пт. 2 | Пт. 3 | Середній | |
| C K | 52.10 | 57.41 | 52.37 | 53.96 |
| М | 47.90 | 42.59 | 47.63 | 46.04 |
- View as
Пористий графіт з покриттям з карбіду танталу
Пористий графіт з покриттям з карбіду танталу є незамінним продуктом у процесі обробки напівпровідників, особливо в процесі вирощування кристалів SIC. Після безперервних інвестицій у науково-дослідні розробки та модернізацію технологій якість продукту з пористого графіту з покриттям TaC від VeTek Semiconductor отримала високу оцінку європейських та американських клієнтів. Ласкаво просимо на подальшу консультацію.
ДетальнішеНадіслати запит
Планетарний епітаксіальний SiC-покриття CVD TaC
Планетарний епітаксіальний приймач SiC з покриттям CVD TaC є одним із основних компонентів планетарного реактора MOCVD. Завдяки CVD TaC-покриттю планетарного епітаксійного приймача SiC великий диск обертається по орбітах, а малий диск обертається, а модель горизонтального потоку поширюється на багаточіпові машини, так що вона має як високоякісне керування рівномірністю епітаксіальної довжини хвилі, так і оптимізацію дефектів одного багаточіпові машини та переваги витрат на виробництво багаточіпових машин. VeTek Semiconductor може надати клієнтам високоспеціалізовані CVD Планетарний епітаксіальний спіраль SiC з покриттям TaC. Якщо ви також хочете зробити планетарну піч MOCVD, як Aixtron, приходьте до нас!
ДетальнішеНадіслати запит
Кільце з покриттям TaC
Як провідний виробник і постачальник кільцевих виробів із покриттям TaC у Китаї, VeTek Semiconductor зосереджується на дослідженнях і розробках та виробництві різноманітних продуктів покриття TaC. Як основні споживачі продукції TaC Coating, європейські та американські виробники дали високу оцінку нашим покриттям. Ласкаво просимо на подальшу консультацію.
ДетальнішеНадіслати запит
Приймач епітаксії GaN
VeTek Semiconductor – це китайська компанія, яка є виробником і постачальником GaN епітаксійного приймача світового рівня. Ми тривалий час працюємо в напівпровідниковій промисловості, такій як покриття з карбіду кремнію та епітаксія GaN. Ми можемо надати вам відмінну продукцію та вигідні ціни. VeTek Semiconductor сподівається стати вашим довгостроковим партнером.
ДетальнішеНадіслати запит
Пластина з покриттям TaC
eTek Semiconductor TaC Coated Wafer Susceptor — це графітовий лоток, покритий карбідом танталу для епітаксіального росту карбіду кремнію для покращення якості та продуктивності пластини. VeTek вибрано через його передову технологію покриття та довговічні рішення, які забезпечують чудові результати епітаксії SiC та подовжений термін служби чутливого елемента. Чекаємо на ваші подальші запити.
ДетальнішеНадіслати запит
Напрямні кільця для покриття TaC
Як провідний виробник напрямних кілець із покриттям TaC у Китаї, VeTek Semiconductor напрямні кільця з покриттям TaC є важливими компонентами в обладнанні MOCVD, забезпечуючи точну та стабільну подачу газу під час епітаксійного росту, і є незамінним матеріалом для епітаксійного росту напівпровідників. Ласкаво просимо проконсультуватися з нами.
ДетальнішеНадіслати запит
Як професійний Покриття з карбіду танталу виробник і постачальник у Китаї, ми маємо власну фабрику. Незалежно від того, чи потрібні вам індивідуальні послуги відповідно до конкретних потреб вашого регіону, чи бажаєте придбати вдосконалений і міцний Покриття з карбіду танталу, виготовлений у Китаї, ви можете залишити нам повідомлення.
