додому > Продукти > Покриття з карбіду танталу > Запасні частини процесу вирощування монокристалів SiC

Китай Запасні частини процесу вирощування монокристалів SiC Виробник, Постачальник, Завод

Продукт VeTek Semiconductor, покриття з карбіду танталу (TaC) для процесу вирощування монокристалів SiC, вирішує проблеми, пов’язані з поверхнею росту кристалів карбіду кремнію (SiC), зокрема повними дефектами, які виникають на краю кристала. Застосовуючи покриття TaC, ми прагнемо покращити якість росту кристала та збільшити ефективну площу центру кристала, що має вирішальне значення для досягнення швидкого та густого росту.

Покриття TaC є основним технологічним рішенням для вирощування високоякісних монокристалів SiC. Ми успішно розробили технологію покриття TaC із використанням хімічного осадження з парової фази (CVD), яка досягла передового міжнародного рівня. TaC має виняткові властивості, включаючи високу температуру плавлення до 3880°C, відмінну механічну міцність, твердість і стійкість до термічного удару. Він також демонструє хорошу хімічну інертність і термічну стабільність при дії високих температур і таких речовин, як аміак, водень і пара, що містить кремній.

Покриття VeTek Semiconductor з карбіду танталу (TaC) пропонує рішення для вирішення проблем, пов’язаних з краями, у процесі вирощування монокристалів SiC, покращуючи якість та ефективність процесу вирощування. Завдяки нашій передовій технології покриття TaC ми прагнемо підтримати розвиток напівпровідникової промисловості третього покоління та зменшити залежність від імпортних ключових матеріалів.


Метод PVT SiC Процес зростання монокристалів Запасні частини:

Тигель із покриттям TaC, тримач насіння з покриттям TaC, напрямне кільце з покриттям TaC є важливими частинами в печі для монокристалів SiC та AIN методом PVT.


Ключова функція:

-Стійкість до високих температур

-Висока чистота, не забруднює сировину SiC та монокристали SiC.

- Стійкість до корозії водяною парою Al та N₂

-Висока евтектична температура (з AlN) для скорочення циклу підготовки кристалів.

- Підлягає повторній переробці (до 200 годин), це покращує стійкість та ефективність підготовки таких монокристалів.


Характеристики покриття TaC


Типові фізичні властивості Tac Coating

Фізичні властивості покриття TaC
Щільність 14,3 (г/см³)
Питома випромінювальна здатність 0.3
Коефіцієнт теплового розширення 6.3 10-6/К
Твердість (HK) 2000 HK
опір 1×10-5 Ом*см
Термостабільність <2500 ℃
Розмір графіту змінюється -10~-20 мкм
Товщина покриття Типове значення ≥20um (35um±10um)


View as  
 
Кільце з покриттям з карбіду танталу

Кільце з покриттям з карбіду танталу

Як професійний інноватор і лідер у виробництві кільця з покриттям з карбіду танталу в Китаї, напівпровідникове кільце з покриттям з карбіду танталу VeTek відіграє незамінну роль у зростанні кристалів SiC завдяки чудовій стійкості до високих температур, зносостійкості та відмінній теплопровідності. Ласкаво просимо до подальшої консультації.

ДетальнішеНадіслати запит
Кільце покриття CVD TaC

Кільце покриття CVD TaC

Кільце з покриттям CVD TaC від VeTek Semiconductor — це надзвичайно вигідний компонент, розроблений для задоволення високих вимог процесів вирощування кристалів карбіду кремнію (SiC). CVD TaC Coating Ring забезпечує виняткову високотемпературну стійкість і хімічну інертність, що робить його ідеальним вибором для середовищ, що характеризуються підвищеними температурами та корозійними умовами. Ми прагнемо надавати якісні продукти за конкурентоспроможними цінами та сподіваємося стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.

ДетальнішеНадіслати запит
Пористий графіт з покриттям TaC

Пористий графіт з покриттям TaC

Пористий графіт із покриттям TaC — це вдосконалений матеріал для обробки напівпровідників, наданий компанією VeTek Semiconductor. Porous Graphite with TaC Coated поєднує в собі переваги покриття з пористого графіту та карбіду танталу (TaC) із хорошою теплопровідністю та газопроникністю. VeTek Semiconductor прагне надавати якісну продукцію за конкурентоспроможними цінами, і ми сподіваємось стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.

ДетальнішеНадіслати запит
Трубка з покриттям з карбіду танталу для вирощування кристалів

Трубка з покриттям з карбіду танталу для вирощування кристалів

VeTek Semiconductor є провідним виробником і новатором трубок з покриттям з карбіду танталу для зростання кристалів у Китаї. Ми спеціалізуємося на керамічному покритті протягом багатьох років. Наші продукти мають високу чистоту та стійкість до високих температур. Ми з нетерпінням чекаємо стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.

ДетальнішеНадіслати запит
Направляюче кільце з покриттям TaC

Направляюче кільце з покриттям TaC

VeTek Semiconductor є провідним виробником і новатором напрямних кілець з покриттям TaC у Китаї. Ми спеціалізуємося на керамічному покритті протягом багатьох років. Направляючі кільця з покриттям TaC використовуються в основному для спрямування та контролю потоку повітря, підвищуючи продуктивність росту монокристалів. Ласкаво просимо до нас, щоб отримати додаткову інформацію.

ДетальнішеНадіслати запит
Графітова пластина з покриттям TaC

Графітова пластина з покриттям TaC

VeTek Semiconductor є провідним виробником та інноватором графітових пластин із покриттям TaC у Китаї. Протягом багатьох років ми спеціалізуємося на покритті SiC і TaC. Наш графітовий носій із покриттям TaC має вищу термостійкість і зносостійкість. Ми з нетерпінням чекаємо можливості стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.

ДетальнішеНадіслати запит
<1>
Як професійний Запасні частини процесу вирощування монокристалів SiC виробник і постачальник у Китаї, ми маємо власну фабрику. Незалежно від того, чи потрібні вам індивідуальні послуги відповідно до конкретних потреб вашого регіону, чи бажаєте придбати вдосконалений і міцний Запасні частини процесу вирощування монокристалів SiC, виготовлений у Китаї, ви можете залишити нам повідомлення.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept