CVD SiC Focus Ring

VeTek Semiconductor є провідним вітчизняним виробником і постачальником фокусних кілець CVD SiC, який займається наданням високоефективних і надійних продуктів для напівпровідникової промисловості. Фокусні кільця CVD SiC компанії VeTek Semiconductor використовують передову технологію хімічного осадження з парової фази (CVD), мають чудову стійкість до високих температур, корозійну стійкість і теплопровідність, а також широко використовуються в процесах напівпровідникової літографії. Ваші запити завжди раді.

Надіслати запит

Опис продукту

Будучи основою сучасних електронних пристроїв та інформаційних технологій, напівпровідникова технологія стала невід’ємною частиною сучасного суспільства. Від смартфонів до комп’ютерів, комунікаційного обладнання, медичного обладнання та сонячних батарей, майже всі сучасні технології базуються на виробництві та застосуванні напівпровідникових пристроїв.

Оскільки вимоги до функціональної інтеграції та продуктивності електронних пристроїв продовжують зростати, технологія виробництва напівпровідників також постійно розвивається та вдосконалюється. Будучи основною ланкою в напівпровідниковій технології, процес травлення безпосередньо визначає структуру та характеристики пристрою.

Процес травлення використовується для точного видалення або коригування матеріалу на поверхні напівпровідника для формування бажаної структури та малюнка схеми. Ці структури визначають продуктивність і функціональність напівпровідникових приладів. Процес травлення дозволяє досягти нанометрової точності, що є основою для виробництва високопродуктивних інтегральних схем (ІС) високої щільності.

CVD SiC Focus Ring є основним компонентом сухого травлення, який в основному використовується для фокусування плазми, щоб зробити її більшою щільністю та енергією на поверхні пластини. Має функцію рівномірного розподілу газу. VeTek Semiconductor вирощує SiC шар за шаром за допомогою процесу CVD і, нарешті, отримує CVD SiC Focus Ring. Підготовлене CVD SiC Focus Ring може ідеально відповідати вимогам процесу травлення.

CVD SiC Focus Ring working diagram

CVD SiC Focus Ring має відмінні механічні властивості, хімічні властивості, теплопровідність, стійкість до високих температур, стійкість до іонного травлення тощо.

● Висока щільність зменшує обсяг травлення

● Висока заборонена смуга та відмінна ізоляція

● Висока теплопровідність, низький коефіцієнт розширення та стійкість до теплового удару

● Висока еластичність і хороша стійкість до механічних впливів

● Висока твердість, зносостійкість і стійкість до корозії

VeTek Semiconductorмає провідні можливості обробки CVD SiC Focus Ring у Китаї. Тим часом досвідчена технічна команда та відділ продажів VeTek Semiconductor допомагають нам надавати клієнтам найкращі продукти кільця фокусування. Вибір VeTek semiconductor означає партнерство з компанією, яка прагне розширити межіCVD карбід кремнію інноваційність.

З великим наголосом на якості, продуктивності та задоволенні клієнтів ми постачаємо продукцію, яка не тільки відповідає суворим вимогам напівпровідникової промисловості, але й перевищує її. Дозвольте нам допомогти вам досягти більшої ефективності, надійності та успіху в роботі за допомогою наших передових рішень CVD з карбіду кремнію.

ДАНІ SEM ПЛІВКИ CVD SIC

SEM DATA OF CVD SIC COATING FILM

Основні фізичні властивості CVD покриття SiC

Основні фізичні властивості CVD покриття SiC
Власність	Типове значення
Кристалічна структура	FCC β-фаза полікристалічна, переважно (111) орієнтована
Щільність покриття SiC	3,21 г/см³
Твердість покриття SiC	Твердість за Віккерсом 2500 (навантаження 500 г)
Розмір зерна	2~10 мкм
Хімічна чистота	99,99995%
Теплоємність	640 Дж·кг^-1·К^-1
Температура сублімації	2700 ℃
Міцність на згин	415 МПа RT 4-точковий
Модуль Юнга	430 Gpa 4pt вигин, 1300 ℃
Теплопровідність	300 Вт·м^-1·К^-1
Теплове розширення (CTE)	4,5×10^-6K^-1