Вафельний підйомник
  • Вафельний підйомникВафельний підйомник

Вафельний підйомник

VeTek Semiconductor є провідним виробником і новатором EPI Wafer Lift Pin у Китаї. Ми спеціалізуємося на покритті SiC на поверхні графіту протягом багатьох років. Ми пропонуємо EPI Wafer Lift Pin для процесу Epi. Завдяки високій якості та конкурентоспроможній ціні ми раді завітати на наш завод у Китаї.

Надіслати запит

Опис продукту

VeTek Semiconductor надає покриття SiC і матеріал покриття TaC з конкурентоспроможною ціною та високою якістю, ласкаво просимо до нас.

Підйомний штифт пластини VeTek Semiconductor EPI є ключовим пристроєм, спеціально розробленим для виробництва напівпровідників. Він використовується для підйому та транспортування пластин, забезпечуючи їхню безпеку та стабільність під час виробництва. Ми пропонуємо підйомний штифт пластини з покриттям SiC, штифт наконечника, кільце попереднього нагрівання для процесу EPI.


Наші штифти EPI для підйому пластин мають такі функції та переваги:

Висока точність і стабільність: наші штифти для підйому пластин EPI використовують передові процеси та матеріали для забезпечення високої точності та стабільності під час підйому та обробки пластин. Він може точно позиціонувати та фіксувати пластини, уникаючи відхилення та пошкодження пластин під час виготовлення.

Безпека та надійність. Наші пластинчасті підйомні штифти EPI виготовлені з високоміцних матеріалів для відмінної довговічності та надійності. Він здатний витримувати вагу та тиск, гарантуючи, що пластина не буде пошкоджена або випадково не впаде під час транспортування.

Автоматизація та ефективність. Наші штифти для підйому пластин EPI розроблені для автономної роботи та бездоганної інтеграції з обладнанням для виробництва напівпровідників. Він може швидко й точно піднімати та переміщувати пластини, підвищуючи ефективність виробництва та зменшуючи потребу в ручних операціях.

Сумісність і застосування: наші підйомні штифти для пластин EPI підходять для широкого діапазону розмірів і типів пластин, включаючи пластини різного діаметру та матеріалів. Він може бути сумісний з різноманітним обладнанням і процесами для виробництва напівпровідників і підходить для різноманітних виробничих середовищ.

Високоякісна та надійна підтримка: ми прагнемо надавати високоякісні та надійні продукти та надавати всебічну підтримку та обслуговування нашим клієнтам. Наші вафельні підйомні штифти проходять суворий контроль якості та випробування, щоб гарантувати їх ефективність і довговічність.

Незалежно від того, займаєтеся ви виробництвом пластин, дослідженням і розробкою напівпровідників або виробництвом, наші штифти для підйому пластин забезпечать вам надійне рішення. Зв’яжіться з нами, щоб дізнатися більше про нашу продукцію для вафельних підйомних штифтів і почати працювати разом заради блискучого майбутнього!


Основні фізичні властивості покриття CVD SiC:

Основні фізичні властивості CVD покриття SiC
Власність Типове значення
Кристалічна структура FCC β-фаза полікристалічна, переважно (111) орієнтована
Щільність 3,21 г/см³
Твердість Твердість за Віккерсом 2500 (навантаження 500 г)
Розмір зерна 2~10 мкм
Хімічна чистота 99,99995%
Теплоємність 640 Дж·кг-1·K-1
Температура сублімації 2700 ℃
Сила гнучкості 415 МПа RT 4-точковий
Модуль Юнга 430 Gpa 4pt вигин, 1300 ℃
Теплопровідність 300 Вт·м-1·K-1
Теплове розширення (CTE) 4,5×10-6K-1



Цех виробництва напівпровідників VeTek


Огляд мережі індустрії епітаксії напівпровідникових мікросхем:


Гарячі теги: Вафельний підйомник, Китай, Виробник, Постачальник, Фабрика, Індивідуальний, Купуйте, Розширений, Міцний, Зроблено в Китаї
Пов'язана категорія
Надіслати запит
Будь ласка, надішліть свій запит у формі нижче. Ми відповімо вам протягом 24 годин.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept