додому > Продукти > Покриття з карбіду кремнію > Процес RTA/RTP > Суцептор швидкого термічного відпалу
Суцептор швидкого термічного відпалу
  • Суцептор швидкого термічного відпалуСуцептор швидкого термічного відпалу
  • Суцептор швидкого термічного відпалуСуцептор швидкого термічного відпалу
  • Суцептор швидкого термічного відпалуСуцептор швидкого термічного відпалу

Суцептор швидкого термічного відпалу

VeTek Semiconductor є провідним виробником і інноватором швидкого термічного відпалу в Китаї. Протягом багатьох років ми спеціалізуємося на матеріалі для покриття SiC. Ми пропонуємо високоякісний, високотемпературний і надтонкий датчик із швидким термічним відпалом. Запрошуємо вас відвідати наш фабрика в Китаї.

Надіслати запит

Опис продукту

Суцептор VeTek Semiconductor Rapid Thermal Annealing має високу якість і тривалий термін служби, ласкаво просимо до нас.

Швидкий термічний відпал (RTA) — це важлива частина швидкої термічної обробки, яка використовується у виготовленні напівпровідникових пристроїв. Він передбачає нагрівання окремих пластин для зміни їхніх електричних властивостей за допомогою різних цілеспрямованих термічних обробок. Процес RTA дає змогу активувати легуючі домішки, змінювати межі розділу плівка-плівка або плівка-підкладка-пластина, ущільнювати осаджені плівки, модифікувати стан вирощеної плівки, виправляти пошкодження іонної імплантації, переміщати допанти та рухати допанти між плівками. або в підкладку пластини.

Продукт VeTek Semiconductor, Rapid Thermal Annealing Susceptor, відіграє важливу роль у процесі RTP. Він виготовлений з використанням високочистого графітового матеріалу із захисним покриттям з інертного карбіду кремнію (SiC). Кремнієва підкладка з покриттям SiC може витримувати температуру до 1100°C, забезпечуючи надійну роботу навіть в екстремальних умовах. Покриття SiC забезпечує чудовий захист від витоку газу та осідання частинок, забезпечуючи довговічність виробу.

Для підтримки точного контролю температури чіп інкапсульований між двома графітовими компонентами високої чистоти, покритими SiC. Точні вимірювання температури можна отримати за допомогою вбудованих високотемпературних датчиків або термопар, які контактують із підкладкою.


Основні фізичні властивості покриття CVD SiC:


Основні фізичні властивості CVD покриття SiC
Власність Типове значення
Кристалічна структура FCC β-фаза полікристалічна, переважно (111) орієнтована
Щільність 3,21 г/см³
Твердість Твердість за Віккерсом 2500 (навантаження 500 г)
Розмір зерна 2~10 мкм
Хімічна чистота 99,99995%
Теплоємність 640 Дж·кг-1·K-1
Температура сублімації 2700 ℃
Сила гнучкості 415 МПа RT 4-точковий
Модуль Юнга 430 Gpa 4pt вигин, 1300 ℃
Теплопровідність 300 Вт·м-1·K-1
Теплове розширення (CTE) 4,5×10-6K-1


Цех виробництва напівпровідників VeTek


Огляд мережі індустрії епітаксії напівпровідникових мікросхем:


Гарячі теги: Суцептор швидкого термічного відпалу, Китай, Виробник, Постачальник, Фабрика, Індивідуальний, Купити, Розширений, Міцний, Зроблено в Китаї
Пов'язана категорія
Надіслати запит
Будь ласка, надішліть свій запит у формі нижче. Ми відповімо вам протягом 24 годин.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept