Фіктивна пластина з покриттям CVD SiC

Характеристики продукту VeTeksemi CVD SiC покриття фіктивної пластини:

● Стійкість до високотемпературного газу: SiC Dummy Wafer має відмінну стійкість до високотемпературної газової ерозії, підходить для використання в екстремальних умовах. Ця стійкість забезпечує стабільну роботу навіть у найскладніших умовах.

●  Довгострокова структурна цілісність: Покриття CVD SiC. Фіктивні пластини розроблені для опору згинанню та деформації протягом тривалого часу. Їх довговічність гарантує, що вони залишаються надійними протягом багатьох циклів тестування, зменшуючи потребу в частій заміні.

●  Поверхня без часток: Пластини SiC мають легку для очищення поверхню, яка мінімізує проблеми з частинками, що є критично важливим для підтримки середовища, вільного від забруднень. Ця функція забезпечує високу якість результатів і знижує ризик дефектів.

●  Хімічна стабільність: Хімічна стабільність пластини Dummy з покриттям SiC дозволяє їй протистояти різноманітним корозійним речовинам без деградації. Ця функція має вирішальне значення для збереження цілісності пластини під час хімічного впливу.

Конкретне використання фіктивних пластин із покриттям SiC із CVD:

●  Універсальне тестування та експериментування: Фіктивні пластини з покриттям SiC необхідні на всіх етапах виробництва напівпровідників, забезпечуючи безпечний і надійний засіб тестування та експериментування. Вони є важливими на початку виробничого процесу, гарантуючи, що всі параметри є оптимальними до використання цінних виробничих пластин.

●  Захист під час дифузії: Під час процесу дифузії фіктивні пластини відіграють важливу роль, екрануючи стандартні кремнієві пластини. Ця захисна функція запобігає пошкодженню та забрудненню, тим самим зберігаючи цілісність та якість оригінальної пластини.

●  Точність вимірювання: ці пластини ретельно використовуються для вимірювання товщини плівки, опору тиску та коефіцієнта відбиття. Вони також допомагають виявити наявність пінболів і оцінити розміри візерунка в літографії, вносячи значний внесок у точність процесу та зменшення дефектів.

Насправді VeTek Semiconductor підтримує персоналізовані послуги щодо продуктів і може забезпечити серіалізацію, визначену користувачем, на кожній фіктивній пластині з покриттям CVD SiC відповідно до потреб замовника, дозволяючи налаштувати розмір і товщину. Спеціальне лазерне гравіювання додатково усуває ризик перехресного забруднення, забезпечуючи високий ступінь чистоти та надійності.

ДАНІ SEM ПЛІВКИ ПОКРИТТЯ CVD SIC: