Покриття з карбіду танталу

VeTek Semiconductor є провідним виробником і новатором покриття з карбіду танталу в Китаї. Ми зосереджені на забезпеченні високої чистоти, високотемпературної стійкості карбіду танталу. Наша кришка з покриттям з карбіду танталу має чудову продуктивність і надійність і може ефективно захищати матеріали в надзвичайно високих температурах і корозійних середовищах. Ми з нетерпінням чекаємо можливості стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.

Надіслати запит

Опис продукту

VeTek Semiconducto є професійним китайським виробником і постачальником покриття з карбіду танталу. Наше покриття з карбіду танталу є найновішим рішенням для термічних застосувань для процесів росту кристалів і епітаксії (epi). Ця ретельно створена унікальна кришка є критично важливим компонентом для підтримки формування кристалів та епітаксійного осадження плівки.

Основний матеріал покриття TaC Coated Graphite Cover виготовлено з високоякісного графіту, який відомий своєю чудовою теплопровідністю та стабільністю. Здатність графіту витримувати екстремальні температури робить його ідеальним матеріалом для застосування в теплових умовах, забезпечуючи довговічність і надійність у складних умовах.

Унікальною особливістю графітового покриття з покриттям TaC є інноваційне покриття з карбіду танталу (TaC). Це передове покриття покращує ефективність покриття, додаючи міцний шар захисту та підвищуючи його стійкість до корозії, зношування та термічного удару. Покриття TaC не тільки підвищує міцність покриття в суворих умовах, але також підвищує ефективність і продовжує термін його служби.

У процесі росту кристалів графітове покриття з покриттям TaC забезпечує точний контроль температури та рівномірно розподіляє тепло, створюючи середовище, яке сприяє утворенню високоякісних кристалів. Крім того, його адаптивність під час процесу епітаксії забезпечує контрольоване осадження тонких плівок, що є критичним для напівпровідників і матеріалів.

Цей ретельно розроблений графітовий ковпачок із покриттям TaC повністю демонструє синергію між притаманними властивостями графіту та розширеними можливостями, які надає покриття TaC. Незалежно від того, чи використовується він у лабораторіях, дослідницьких установах чи промислових середовищах, графітовий ковпачок із покриттям TaC є моделлю інновацій у теплових технологіях, що забезпечує надійне та довговічне рішення для процесів росту кристалів та епітаксії. VeTek Semiconductor продовжуватиме надавати клієнтам найсучасніші технологічні рішення та комплексну підтримку.

Параметр продукту покриття з карбіду танталу

Фізичні властивості покриття TaC
Щільність	14,3 (г/см³)
Питома випромінювальна здатність	0.3
Коефіцієнт теплового розширення	6.3 10-6/К
Твердість (HK)	2000 HK
опір	1×10-5 Ом*см
Термостабільність	<2500 ℃
Розмір графіту змінюється	-10~-20 мкм
Товщина покриття	Типове значення ≥20um (35um±10um)