Приймач ALD

Як професіоналПриймач ALDвиробник в Китаї, наш продуктПриймач ALDТочний контроль температури, рівномірний розподіл газу та чудова теплопровідність та інші характеристики продукту визначають цеПриймач ALDвідіграє вирішальну роль у процесі атомно-шарового осадження (ALD). Важлива роль, раді вашій консультації.

Рівномірне осадження тонкої плівки:ALD Susceptor забезпечує рівномірне осадження атомарних шарів по всій поверхні пластини під час процесу атомарного шару (ALD). Його унікальна обертова конструкція дозволяє газам і реагентам рівномірно контактувати з поверхнею пластини, що призводить до рівномірної товщини плівки. Це критично важливо для виробництва високоточних напівпровідників.

Поліпшити якість осадження: завдяки оптимізації контролю температури та розподілу газу ALD Susceptor значно покращує якість і продуктивність плівки, зменшуючи дефекти та нерівномірність. Це робить його ідеальним для виробництва високоточних напівпровідників і електронних пристроїв, забезпечуючи надійність і продуктивність продукції.

Підтримує обробку кількох пластин: Деякі конструкції ALD Susceptor дозволяють одночасно обробляти кілька пластин, підвищуючи ефективність виробництва. Це особливо важливо для високопродуктивних виробничих середовищ, здатних задовольнити потреби великомасштабного виробництва.

Вміщує різні розміри та типи вафель:Сусцептори ALD зазвичай розроблені для високої сумісності та можуть підтримувати різні розміри та типи пластин. Це робить його ефективним у різноманітних виробничих процесах, забезпечуючи більшу гнучкість і адаптивність.

Знизити витрати на виробництво: Завдяки ефективному розподілу газу та здатності до рівномірного нагріву ALD Susceptor підвищує ефективність процесу осадження, тим самим зменшуючи відходи матеріалу та витрати на виробництво. Це не тільки сприяє підвищенню ефективності виробництва, але й значно знижує виробничі витрати.

Основні фізичні властивості CVD покриття SiC:

Виробничі цехи:

Огляд мережі індустрії епітаксії напівпровідникових мікросхем：