Приймач ALD
  • Приймач ALDПриймач ALD

Приймач ALD

VeTek Semiconductor є професійним виробником ALD Susceptor, CVD SiC покриття, CVD TAC COATING графітової основи в Китаї. Компанія Vetek Semiconductor спільно з виробниками систем ALD розробила та виготовила планетарні основи ALD із SiC-покриттям, щоб відповідати високим вимогам процесу ALD та рівномірно розподіляти потік повітря на підкладці. Сподіваємось на подальшу співпрацю з вами.

Надіслати запит

Опис продукту

Як професіоналПриймач ALDвиробник в Китаї, наш продуктПриймач ALDТочний контроль температури, рівномірний розподіл газу та чудова теплопровідність та інші характеристики продукту визначають цеПриймач ALDвідіграє вирішальну роль у процесі атомно-шарового осадження (ALD). Важлива роль, раді вашій консультації.


Рівномірне осадження тонкої плівки:ALD Susceptor забезпечує рівномірне осадження атомарних шарів по всій поверхні пластини під час процесу атомарного шару (ALD). Його унікальна обертова конструкція дозволяє газам і реагентам рівномірно контактувати з поверхнею пластини, що призводить до рівномірної товщини плівки. Це критично важливо для виробництва високоточних напівпровідників.


Поліпшити якість осадження: завдяки оптимізації контролю температури та розподілу газу ALD Susceptor значно покращує якість і продуктивність плівки, зменшуючи дефекти та нерівномірність. Це робить його ідеальним для виробництва високоточних напівпровідників і електронних пристроїв, забезпечуючи надійність і продуктивність продукції.


Підтримує обробку кількох пластин: Деякі конструкції ALD Susceptor дозволяють одночасно обробляти кілька пластин, підвищуючи ефективність виробництва. Це особливо важливо для високопродуктивних виробничих середовищ, здатних задовольнити потреби великомасштабного виробництва.


Вміщує різні розміри та типи вафель:Сусцептори ALD зазвичай розроблені для високої сумісності та можуть підтримувати різні розміри та типи пластин. Це робить його ефективним у різноманітних виробничих процесах, забезпечуючи більшу гнучкість і адаптивність.


Знизити витрати на виробництво: Завдяки ефективному розподілу газу та здатності до рівномірного нагріву ALD Susceptor підвищує ефективність процесу осадження, тим самим зменшуючи відходи матеріалу та витрати на виробництво. Це не тільки сприяє підвищенню ефективності виробництва, але й значно знижує виробничі витрати.


Основні фізичні властивості CVD покриття SiC:




Виробничі цехи:



Огляд мережі індустрії епітаксії напівпровідникових мікросхем

Гарячі теги: ALD Susceptor, Китай, Виробник, Постачальник, Фабрика, Індивідуальний, Купити, Розширений, Міцний, Зроблено в Китаї
Пов'язана категорія
Надіслати запит
Будь ласка, надішліть свій запит у формі нижче. Ми відповімо вам протягом 24 годин.
X
We use cookies to offer you a better browsing experience, analyze site traffic and personalize content. By using this site, you agree to our use of cookies. Privacy Policy
Reject Accept