VeTek Semiconductor є професійним виробником пористого графіту, CVD SiC покриття та CVD TAC COATING графітового чутливого елемента в Китаї. Фактично, як основний витратний матеріал у процесі виробництва напівпровідників, пористий графіт відіграє незамінну роль у багатьох зв’язках, таких як ріст кристалів, легування та відпал. VeTek Semiconductor прагне надавати високоякісні продукти за конкурентоспроможними цінами, і ми з нетерпінням чекаємо можливості стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.
На китайському ринку графітових лотків, покритих карбідом кремнію, пористий графітовий компонент VeTek Semiconductor є ключовим витратним матеріалом у процесі виробництва напівпровідників, і його продуктивність безпосередньо впливає на якість і надійність напівпровідникових пристроїв. Це незамінний продукт у процесі виробництва напівпровідників. Ласкаво просимо до подальшої консультації.
VeTek Semiconductor деталі з пористого графітувідіграють незамінну роль у обробці напівпровідників, а саме:
● Контейнер для високотемпературного плавлення: висока температура плавлення пористого графіту дозволяє йому витримувати високотемпературний процес плавлення напівпровідникових матеріалів, тоді як пориста структура ефективно перешкоджає утворенню бульбашок і забезпечує високу чистоту розплаву.
● Атмосферний носій: Пористий графіт може створити відносно стабільну інертну атмосферу, зменшити контакт між розплавом і зовнішнім середовищем і уникнути окислення та забруднення.
● Теплоносій: Чудова теплопровідність пористого графіту забезпечує рівномірний розподіл температури розплаву та сприяє рівномірному зростанню кристалів.
● Підтримка та фіксація: Graphite Crucible забезпечує стабільну опору для розплаву, щоб запобігти його деформації.
● Газодифузійний канал: структура пористого графіту забезпечує дифузійний канал для газу, що утворюється в розплаві, що допомагає зменшити тиск газу та уникнути дефектів кристалів.
Що ще важливіше, VeTek Semiconductor займає абсолютну лідируючу позицію на китайському ринку графітових токоприймачів із тактичним покриттям і графітових тиглів із тактичним покриттям.Як професійний виробникпористийграфітовий тигель, Пористий графітіПластина з покриттям TaC iУ Китаї VeTek Semiconductor завжди наполягає на наданні індивідуальних послуг із продуктами та прагне надавати галузі найкращі технології та рішення для продуктів. Ми щиро чекаємо на вашу консультацію.
Типові фізичні властивості пористого графіту |
|
lt |
Параметр |
Насипна щільність |
0,89 г/см2 |
Міцність на стиск |
8,27 МПа |
Міцність на вигин |
8,27 МПа |
Міцність на розрив |
1,72 МПа |
Питомий опір |
130Ω-inX10-5 |
Графітова пористість |
50% |
Середній розмір пор |
70um |
Теплопровідність |
12 Вт/М*К |