Продукти

VeTek є професійним виробником і постачальником у Китаї. Наша фабрика пропонує вуглецеве волокно, кераміку з карбіду кремнію, епітаксію з карбіду кремнію тощо. Якщо ви зацікавлені в наших продуктах, ви можете запитати зараз, і ми швидко зв’яжемося з вами.

View as

CVD TaC Coating Carrier

Носій покриття CVD TaC компанії VeTek Semiconductor в основному розроблений для епітаксійного процесу виробництва напівпровідників. Надвисока температура плавлення, чудова стійкість до корозії та надзвичайна термостабільність покриття CVD TaC Coating визначають незамінність цього продукту в епітаксійному процесі напівпровідників. Ми щиро сподіваємося побудувати з вами довгострокові ділові відносини.

Детальніше Надіслати запит

Перегородка з покриттям CVD SiC

CVD SiC Coating Deffle від Vetek Semiconductor в основному використовується в епітаксії Si. Зазвичай використовується з силіконовими подовжувачами. Він поєднує в собі унікальну високу температуру та стабільність CVD SiC Coating Baffle, що значно покращує рівномірний розподіл повітряного потоку у виробництві напівпровідників. Ми віримо, що наша продукція може запропонувати вам передові технології та високоякісні продуктові рішення.

Детальніше Надіслати запит

CVD SiC графітовий циліндр

CVD SiC-графітовий циліндр від Vetek Semiconductor є ключовим у напівпровідниковому обладнанні, слугуючи захисним екраном у реакторах для захисту внутрішніх компонентів при високих температурах і тиску. Він ефективно захищає від хімічних речовин і сильної спеки, зберігаючи цілісність обладнання. Завдяки винятковій стійкості до зносу та корозії, він забезпечує довговічність і стабільність у складних умовах. Використання цих чохлів покращує продуктивність напівпровідникових пристроїв, подовжує термін служби та зменшує вимоги до обслуговування та ризики пошкодження. Ласкаво просимо до нас.

Детальніше Надіслати запит

Насадка для покриття CVD SiC

Насадки CVD SiC Coating від Vetek Semiconductor є ключовими компонентами, які використовуються в процесі епітаксії LPE SiC для нанесення карбідних матеріалів кремнію під час виробництва напівпровідників. Ці насадки зазвичай виготовляються з високотемпературного та хімічно стійкого карбіду кремнію, щоб забезпечити стабільність у суворих умовах обробки. Розроблені для рівномірного нанесення, вони відіграють ключову роль у контролі якості та однорідності епітаксіальних шарів, вирощених у напівпровідникових додатках. З нетерпінням чекаємо налагодження довгострокової співпраці з вами.

Детальніше Надіслати запит

CVD SiC протектор покриття

Vetek Semiconductor надає CVD SiC Coating Protector, який використовується для LPE SiC епітаксії. Термін «LPE» зазвичай відноситься до епітаксії під низьким тиском (LPE) у хімічному осадженні з парової фази під низьким тиском (LPCVD). У виробництві напівпровідників LPE є важливою технологічною технологією для вирощування монокристалічних тонких плівок, які часто використовуються для вирощування кремнієвих епітаксійних шарів або інших напівпровідникових епітаксійних шарів. Будь ласка, не соромтеся звертатися до нас, щоб отримати додаткові запитання.

Детальніше Надіслати запит

П'єдестал із покриттям SiC

Vetek Semiconductor є професіоналом у виготовленні покриттів CVD SiC, покриттів TaC на матеріалі з графіту та карбіду кремнію. Ми надаємо продукти OEM та ODM, такі як п’єдестал з SiC покриттям, підставка для пластин, патрон для пластин, лоток для пластин, планетарний диск тощо. Завдяки чистій кімнаті та пристрою для очищення 1000 класу ми можемо надати вам продукти з вмістом домішок нижче 5 ppm. Чекаємо з нетерпінням від вас скоро.

Детальніше Надіслати запит

<...17 18 19 20 21...36 >