Китай Покриття з карбіду кремнію Виробник, Постачальник, Завод

VeTek Semiconductor спеціалізується на виробництві надчистих покриттів з карбіду кремнію, ці покриття призначені для нанесення на компоненти з очищеного графіту, кераміки та тугоплавких металів.

Наші покриття високої чистоти в першу чергу призначені для використання в напівпровідниковій та електронній промисловості. Вони служать захисним шаром для носіїв пластин, токоприймачів і нагрівальних елементів, захищаючи їх від корозійних і реактивних середовищ, які зустрічаються в таких процесах, як MOCVD і EPI. Ці процеси є невід’ємною частиною обробки пластин і виробництва пристроїв. Крім того, наші покриття добре підходять для застосування у вакуумних печах і нагріванні зразків, де стикаються з високим вакуумом, реактивними та кисневими середовищами.

У VeTek Semiconductor ми пропонуємо комплексне рішення з передовими можливостями машинного цеху. Це дозволяє нам виготовляти базові компоненти з графіту, кераміки або тугоплавких металів і наносити керамічні покриття SiC або TaC власними силами. Ми також надаємо послуги з нанесення покриття на надані клієнтом деталі, забезпечуючи гнучкість для задоволення різноманітних потреб.

Наші продукти з покриттям з карбіду кремнію широко використовуються в епітаксії Si, епітаксії SiC, системі MOCVD, процесу RTP/RTA, процесі травлення, процесі травлення ICP/PSS, процесі різних типів світлодіодів, включаючи сині та зелені світлодіоди, ультрафіолетові світлодіоди та глибоке УФ. Світлодіод тощо, який адаптований до обладнання LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI тощо.

Частини реактора, які ми можемо зробити:

Покриття з карбіду кремнію має кілька унікальних переваг:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

Параметр покриття з карбіду кремнію VeTek Semiconductor:

Основні фізичні властивості CVD покриття SiC
Власність	Типове значення
Кристалічна структура	FCC β-фаза полікристалічна, переважно (111) орієнтована
Щільність	3,21 г/см³
Твердість	Твердість за Віккерсом 2500 (навантаження 500 г)
Розмір зерна	2~10 мкм
Хімічна чистота	99,99995%
Теплоємність	640 Дж·кг-1·K-1
Температура сублімації	2700 ℃
Міцність на згин	415 МПа RT 4-точковий
Модуль Юнга	430 Gpa 4pt вигин, 1300 ℃
Теплопровідність	300 Вт·м-1·K-1
Теплове розширення (CTE)	4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

View as

Верхня частина півмісяця з покриттям SiC

VeTek Semiconductor є провідним постачальником спеціалізованої частини SiC із покриттям Upper Halfmoon Part у Китаї, яка спеціалізується на передових матеріалах понад 20 років. VeTek Semiconductor Upper Halfmoon Part SiC з покриттям спеціально розроблено для епітаксійного обладнання SiC, яке є ключовим компонентом у реакційній камері. Виготовлений із надзвичайно чистого напівпровідникового графіту, він забезпечує чудову продуктивність. Запрошуємо вас відвідати наш завод у Китаї.

Детальніше Надіслати запит

Сусцептор MOCVD із покриттям SiC

Сусцептор MOCVD із покриттям SiC від VeTek Semiconductor — це пристрій із чудовим технологічним процесом, довговічністю та надійністю. Вони можуть витримувати високу температуру та хімічне середовище, підтримувати стабільну продуктивність і тривалий термін служби, тим самим зменшуючи частоту заміни та обслуговування та покращуючи ефективність виробництва. Наш епітаксіальний пристосувач MOCVD відомий своєю високою щільністю, чудовою площинністю та відмінним термоконтролем, що робить його кращим обладнанням у жорстких виробничих умовах. Будемо раді співпраці з вами.

Детальніше Надіслати запит

Носій ICP для травлення з покриттям SiC

Носій ICP Etching Carrier із покриттям SiC від VeTek Semiconductor розроблений для найвибагливіших застосувань обладнання для епітаксії. Виготовлений із високоякісного надзвичайно чистого графітового матеріалу, наш ICP-носій із покриттям SiC має дуже плоску поверхню та чудову стійкість до корозії, щоб витримувати суворі умови під час роботи. Висока теплопровідність носія з покриттям SiC забезпечує рівномірний розподіл тепла для чудових результатів травлення. VeTek Semiconductor сподівається на побудову довгострокового партнерства з вами.

Детальніше Надіслати запит

Несуча пластина для травлення PSS для напівпровідників

Несуча пластина PSS Etching Carrier для напівпровідників від VeTek Semiconductor — це високоякісний надзвичайно чистий графітовий носій, розроблений для процесів обробки пластин. Наші носії мають відмінну продуктивність і можуть добре працювати в суворих умовах, високих температурах і жорстких умовах хімічного очищення. Наша продукція широко використовується на багатьох європейських та американських ринках, і ми з нетерпінням чекаємо можливості стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.

Детальніше Надіслати запит

Суцептор швидкого термічного відпалу

VeTek Semiconductor є провідним виробником і інноватором швидкого термічного відпалу в Китаї. Протягом багатьох років ми спеціалізуємося на матеріалі для покриття SiC. Ми пропонуємо високоякісний, високотемпературний і надтонкий датчик із швидким термічним відпалом. Запрошуємо вас відвідати наш фабрика в Китаї.

Детальніше Надіслати запит

Епітаксіальний GaN на основі кремнію

VeTek Semiconductor є професійним виробником і постачальником, який націлений на постачання високоякісних епітаксіальних GaN на основі кремнію. Напівпровідник-суцептор використовується в системі VEECO K465i GaN MOCVD, висока чистота, стійкість до високих температур, стійкість до корозії, ласкаво просимо запитувати та співпрацювати з нами!

Детальніше Надіслати запит

<...12 13 14 15 16 >

Як професійний Покриття з карбіду кремнію виробник і постачальник у Китаї, ми маємо власну фабрику. Незалежно від того, чи потрібні вам індивідуальні послуги відповідно до конкретних потреб вашого регіону, чи бажаєте придбати вдосконалений і міцний Покриття з карбіду кремнію, виготовлений у Китаї, ви можете залишити нам повідомлення.