VeTek Semiconductor High Pure Silicon Carbide Wafer Carrier є важливими компонентами в обробці напівпровідників, розробленими для безпечного утримання та транспортування тонких кремнієвих пластин, відіграючи ключову роль на всіх етапах виробництва. Вафельний носій з карбіду кремнію високої чистоти від VeTek Semiconductor ретельно розроблений і виготовлений для забезпечення чудової продуктивності та надійності. VeTek Semiconductor прагне надавати якісну продукцію за конкурентоспроможними цінами, і ми сподіваємось стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.
VeTek Semiconductor є професійним лідером у Китаї з високою якістю та прийнятною ціною. Ласкаво просимо до нас.
Носій для пластин з карбіду кремнію високої чистоти від VeTek Semiconductor — це носій, розроблений для кількох пластин, щоб максимально збільшити ефективність простору в технологічній камері. Ці карбідокремнієві пластини високої чистоти зазвичай мають прямокутну або циліндричну форму, і кожна пластина має точно оброблені прорізи або канавки, які відокремлені одна від одної, щоб міцно утримувати одну пластину у вертикальному положенні. Носій для пластин з карбіду кремнію високої чистоти має чудову стійкість до високих температур, корозійних хімікатів і механічного впливу, що робить їх ідеальними для захисту пластин від потенційного пошкодження. Вони виготовляються з високочистого карбіду кремнію (SiC), щоб забезпечити цілісність і безпеку пластин під час обробки.
Вафельні носії з карбіду кремнію високої чистоти відіграють важливу роль у складних процесах, таких як дифузія, RTP і теплові поля, слугуючи стабільним носієм для пластин для безперебійного перенесення між різним обладнанням і етапами. Його вертикальна структура мінімізує простір у робочій камері, оптимізує продуктивність і може ефективно обробляти великі партії пластин. Вафельні носії з карбіду кремнію високої чистоти відомі своєю відмінною стійкістю до високих температур, корозії та механічною міцністю для захисту пластин від потенційного пошкодження.
Вафельний носій з карбіду кремнію високої чистоти від VeTek Semiconductor виготовлений з карбіду кремнію високої чистоти (SiC) і має чудову стійкість до високих температур, стійкість до хімічної корозії та механічну міцність для захисту цілісності пластин у суворих умовах. Його ретельно розроблена структура та точно оброблені слоти гарантують надійне розміщення пластин відповідно до потреб високоточної обробки.
VeTek Semiconductor прагне надавати клієнтам високоякісні продукти та надійну технічну підтримку. Під час росту пластин, дифузії, осадження тонких плівок або інших критичних процесів, пластинчастий носій з карбіду кремнію високої чистоти VeTek Semiconductor може відігравати важливу роль у забезпеченні стабільності та послідовності виробничого процесу. Ми з нетерпінням чекаємо можливості стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.
Фізичні властивості перекристалізованого карбіду кремнію | |
Власність | Типове значення |
Робоча температура (°C) | 1600°C (з киснем), 1700°C (відновне середовище) |
Вміст SiC | > 99,96% |
Безкоштовний вміст Si | < 0,1% |
Об'ємна щільність | 2,60-2,70 г/см3 |
Видима пористість | < 16% |
Міцність на стиск | > 600 МПа |
Міцність на холодний вигин | 80-90 МПа (20°C) |
Міцність на гарячий вигин | 90-100 МПа (1400°C) |
Теплове розширення @1500°C | 4,70 10-6/°C |
Теплопровідність @1200°C | 23 Вт/м•К |
Модуль пружності | 240 ГПа |
Стійкість до термічного удару | Надзвичайно добре |