Консольне весло SiC

SiC Console Paddle компанії VeTek Semiconductor є дуже високоефективним продуктом. Наша консольна пластина SiC зазвичай використовується в печах термічної обробки для обробки та підтримки кремнієвих пластин, хімічного осадження з парової фази (CVD) та інших процесів обробки в процесах виробництва напівпровідників. Висока температурна стабільність і висока теплопровідність матеріалу SiC забезпечують високу ефективність і надійність процесу обробки напівпровідників. Ми прагнемо надавати високоякісні продукти за конкурентоспроможними цінами та сподіваємося стати вашим довгостроковим партнером у Китаї.

Надіслати запит

Опис продукту

Ласкаво просимо вас прийти на наш завод Vetek Semiconductor, щоб придбати найновішу продукцію за низькою ціною та високоякісну консольну пластину SiC. Будемо раді співпраці з вами.

Особливості консольної пластини SiC від VeTek Semiconductor:

Високотемпературна стабільність: Здатний зберігати свою форму та структуру при високих температурах, підходить для високотемпературних процесів обробки.

Стійкість до корозії: чудова стійкість до корозії до різних хімічних речовин і газів.

Висока міцність і жорсткість: забезпечує надійну підтримку для запобігання деформації та пошкодженню.

Переваги консольної пластини SiC від VeTek Semiconductor:

Висока точність: висока точність обробки забезпечує стабільну роботу в автоматизованому обладнанні.

Низьке забруднення: матеріал SiC високої чистоти знижує ризик забруднення, що особливо важливо для надчистого виробничого середовища.

Високі механічні властивості: здатний витримувати важкі робочі середовища з високими температурами та високим тиском.

Специфічні застосування SiC Contilever Paddle та принцип його застосування

Обробка кремнієвих пластин у виробництві напівпровідників:

SiC Contilever Paddle в основному використовується для обробки та підтримки кремнієвих пластин під час виробництва напівпровідників. Ці процеси зазвичай включають очищення, травлення, покриття та термічну обробку. Принцип застосування:

Робота з кремнієвими пластинами: консольна пластина SiC призначена для безпечного затискання та переміщення кремнієвих пластин. Під час процесів високотемпературної та хімічної обробки висока твердість і міцність матеріалу SiC гарантують, що кремнієва пластина не буде пошкоджена або деформована.

Процес хімічного осадження з парової фази (CVD):

У процесі CVD SiC Cantilever Paddle використовується для транспортування кремнієвих пластин, щоб тонкі плівки могли бути нанесені на їхні поверхні. Принцип застосування:

У процесі CVD консольна пластина SiC використовується для фіксації кремнієвої пластини в реакційній камері, а газоподібний прекурсор розкладається при високій температурі та утворює тонку плівку на поверхні кремнієвої пластини. Стійкість SiC до хімічної корозії забезпечує стабільну роботу в умовах високої температури та хімічного середовища.

Параметр продукту SiC Cantilever Paddle

Фізичні властивості перекристалізованого карбіду кремнію
Власність	Типове значення
Робоча температура (°C)	1600°C (з киснем), 1700°C (відновне середовище)
Вміст SiC	> 99,96%
Безкоштовний вміст Si	< 0,1%
Об'ємна щільність	2,60-2,70 г/см3
Видима пористість	< 16%
Міцність на стиск	> 600 МПа
Міцність на холодний вигин	80-90 МПа (20°C)
Міцність на гарячий вигин	90-100 МПа (1400°C)
Теплове розширення @1500°C	4,70 10-6/°C
Теплопровідність @1200°C	23 Вт/м•К
Модуль пружності	240 ГПа
Стійкість до термічного удару	Надзвичайно добре