Як професійний виробник і постачальник стелі з покриттям CVD SiC у Китаї, стеля VeTek Semiconductor з покриттям CVD SiC має чудові властивості, такі як стійкість до високих температур, стійкість до корозії, висока твердість і низький коефіцієнт теплового розширення, що робить його ідеальним вибором матеріалу для виробництва напівпровідників. Сподіваємось на подальшу співпрацю з вами.
ДетальнішеНадіслати запитVeTek Semiconductor є провідним виробником, новатором і лідером CVD SiC Coating і TAC Coating в Китаї. Протягом багатьох років ми зосереджувалися на різноманітних продуктах з покриттям CVD SiC, таких як спідниця з покриттям CVD SiC, кільце покриття CVD SiC, носій для покриття CVD SiC тощо. VeTek Semiconductor підтримує індивідуальні послуги та задовільні ціни на продукцію, і з нетерпінням чекає на ваше подальше консультація.
ДетальнішеНадіслати запитCVD SiC Coating Deffle від Vetek Semiconductor в основному використовується в епітаксії Si. Зазвичай використовується з силіконовими подовжувачами. Він поєднує в собі унікальну високу температуру та стабільність CVD SiC Coating Baffle, що значно покращує рівномірний розподіл повітряного потоку у виробництві напівпровідників. Ми віримо, що наша продукція може запропонувати вам передові технології та високоякісні продуктові рішення.
ДетальнішеНадіслати запитCVD SiC-графітовий циліндр від Vetek Semiconductor є ключовим у напівпровідниковому обладнанні, слугуючи захисним екраном у реакторах для захисту внутрішніх компонентів при високих температурах і тиску. Він ефективно захищає від хімічних речовин і сильної спеки, зберігаючи цілісність обладнання. Завдяки винятковій стійкості до зносу та корозії, він забезпечує довговічність і стабільність у складних умовах. Використання цих чохлів покращує продуктивність напівпровідникових пристроїв, подовжує термін служби та зменшує вимоги до обслуговування та ризики пошкодження. Ласкаво просимо до нас.
ДетальнішеНадіслати запитНасадки CVD SiC Coating від Vetek Semiconductor є ключовими компонентами, які використовуються в процесі епітаксії LPE SiC для нанесення карбідних матеріалів кремнію під час виробництва напівпровідників. Ці насадки зазвичай виготовляються з високотемпературного та хімічно стійкого карбіду кремнію, щоб забезпечити стабільність у суворих умовах обробки. Розроблені для рівномірного нанесення, вони відіграють ключову роль у контролі якості та однорідності епітаксіальних шарів, вирощених у напівпровідникових додатках. З нетерпінням чекаємо налагодження довгострокової співпраці з вами.
ДетальнішеНадіслати запитVetek Semiconductor надає CVD SiC Coating Protector, який використовується для LPE SiC епітаксії. Термін «LPE» зазвичай відноситься до епітаксії під низьким тиском (LPE) у хімічному осадженні з парової фази під низьким тиском (LPCVD). У виробництві напівпровідників LPE є важливою технологічною технологією для вирощування монокристалічних тонких плівок, які часто використовуються для вирощування кремнієвих епітаксійних шарів або інших напівпровідникових епітаксійних шарів. Будь ласка, не соромтеся звертатися до нас, щоб отримати додаткові запитання.
ДетальнішеНадіслати запит