графітовий нагрівач з керамічним покриттям карбіду кремнію

VeTek Semiconductor Графітовий нагрівач із керамічним покриттям із карбіду кремніюпоєднує чудову електро- та теплопровідність графіту з високотемпературною стійкістю, корозійною стійкістю та зносостійкістю кремнієвого вуглецевого керамічного покриття та розроблено для жорстких умов виробництва напівпровідників. 

Графітовий нагрівач з керамічним покриттям з карбіду кремніюв основному використовується в обладнанні для вакуумного покриття (випарювання), а зазвичай використовуються методи PCD (плазмохімічне сушіння) і PVD (фізичне осадження з парової фази). Цей продукт відіграв важливу роль у просуванні технологічного прогресу та підвищенні ефективності виробництва в напівпровідниковій промисловості.Ми щиро сподіваємось на подальшу співпрацю з вами.

Матеріал і структурні особливості графітового нагрівача з керамічним покриттям з карбіду кремнію є такими::

Графітова підкладка: Графіт відомий своєю високою теплопровідністю та низьким коефіцієнтом теплового розширення. Він може швидко реагувати на зміни температури і зберігати структурну стабільність при високих температурах.

Силіконово-вуглецеве керамічне покриття: покриття SiC рівномірно наноситься на поверхню графіту за допомогою хімічного осадження з парової фази або інших передових процесів. SiC має надзвичайно високу твердість і стійкість до хімічної корозії, що може захистити графітову підкладку від високотемпературного окислення та корозійного середовища.

Особливий структурний дизайн графітового нагрівача з керамічним покриттям з карбіду кремнію визначаєнезамінні переваги цього продукту в процесі обробки напівпровідників:

Ефективний і рівномірний обігрів:

Теплопровідність: Висока теплопровідність графіту дозволяє нагрівачу швидко досягати і підтримувати необхідну температуру, а покриття SiC забезпечує рівномірний розподіл тепла. Це особливо важливо для напівпровідникових процесів, які вимагають точного контролю температури, таких як швидка термічна обробка (RTP) і хімічне осадження з парової фази (CVD).

Рівномірність температури: Завдяки рівномірному розподілу тепла графітовий нагрівач із керамічним покриттям з карбіду кремнію може ефективно зменшувати термічну напругу та температурний градієнт, забезпечуючи консистенцію та стабільність якості напівпровідникових пластин протягом усього процесу нагрівання.

Антикорозійний захист:

Хімічна стійкість: Стійкість до хімічної корозії покриття SiC дозволяє нагрівачу працювати стабільно та протягом тривалого часу в агресивних газових та хімічних середовищах, уникаючи пошкодження графітової підкладки. Ця функція особливо важлива в таких процесах, як хімічне осадження з парової фази (CVD) і плазмове хімічне осадження з парової фази (PECVD).

Стійкість до окислення: При високих температурах покриття SiC може запобігти окисленню графітової підкладки, продовжити термін служби нагрівача та зменшити частоту та вартість обслуговування обладнання.

Зменшити забруднення частинками:

Стабільність поверхні: покриття SiC не тільки зносостійке, але й запобігає падінню частинок з поверхні матеріалу внаслідок термічного циклу або хімічних реакцій, тим самим знижуючи ризик забруднення частинками, яке може виникнути під час виробництва напівпровідників, і забезпечуючи технологічне середовище високої чистоти.

Підвищення надійності та ефективності процесу:

Довговічний дизайн: Завдяки поєднанню механічної міцності графіту та зносостійкості покриття SiC графітовий нагрівач із керамічним покриттям з карбіду кремнію може підтримувати високу ефективність роботи протягом тривалого часу в суворих умовах процесу, значно підвищуючи загальну надійність обладнання.

Ефективне використання енергії: Висока теплопровідність графіту та високотемпературна стабільність покриття SiC дозволяють нагрівачу зменшити споживання енергії, підвищуючи при цьому точність контролю температури, тим самим підвищуючи загальну ефективність виробництва напівпровідників.

Основні фізичні властивостіГрафітовий нагрівач із керамічним покриттям із карбіду кремнію:

VeTek SemiconductorГрафітовий нагрівач із керамічним покриттям із карбіду кремніюмагазини:

Огляд мережі індустрії епітаксії напівпровідникових мікросхем:

/інший процес