Китай Покриття з карбіду кремнію Виробник, Постачальник, Завод

VeTek Semiconductor спеціалізується на виробництві надчистих покриттів з карбіду кремнію, ці покриття призначені для нанесення на компоненти з очищеного графіту, кераміки та тугоплавких металів.

Наші покриття високої чистоти в першу чергу призначені для використання в напівпровідниковій та електронній промисловості. Вони служать захисним шаром для носіїв пластин, токоприймачів і нагрівальних елементів, захищаючи їх від корозійних і реактивних середовищ, які зустрічаються в таких процесах, як MOCVD і EPI. Ці процеси є невід’ємною частиною обробки пластин і виробництва пристроїв. Крім того, наші покриття добре підходять для застосування у вакуумних печах і нагріванні зразків, де стикаються з високим вакуумом, реактивними та кисневими середовищами.

У VeTek Semiconductor ми пропонуємо комплексне рішення з передовими можливостями машинного цеху. Це дозволяє нам виготовляти базові компоненти з графіту, кераміки або тугоплавких металів і наносити керамічні покриття SiC або TaC власними силами. Ми також надаємо послуги з нанесення покриття на надані клієнтом деталі, забезпечуючи гнучкість для задоволення різноманітних потреб.

Наші продукти з покриттям з карбіду кремнію широко використовуються в епітаксії Si, епітаксії SiC, системі MOCVD, процесу RTP/RTA, процесі травлення, процесі травлення ICP/PSS, процесі різних типів світлодіодів, включаючи сині та зелені світлодіоди, ультрафіолетові світлодіоди та глибоке УФ. Світлодіод тощо, який адаптований до обладнання LPE, Aixtron, Veeco, Nuflare, TEL, ASM, Annealsys, TSI тощо.

Частини реактора, які ми можемо зробити:

Покриття з карбіду кремнію має кілька унікальних переваг:

Silicon Carbide Coating several unique advantages

Параметр покриття з карбіду кремнію VeTek Semiconductor:

Основні фізичні властивості CVD покриття SiC
Власність	Типове значення
Кристалічна структура	FCC β-фаза полікристалічна, переважно (111) орієнтована
Щільність	3,21 г/см³
Твердість	Твердість за Віккерсом 2500 (навантаження 500 г)
Розмір зерна	2~10 мкм
Хімічна чистота	99,99995%
Теплоємність	640 Дж·кг-1·K-1
Температура сублімації	2700 ℃
Міцність на згин	415 МПа RT 4-точковий
Модуль Юнга	430 Gpa 4pt вигин, 1300 ℃
Теплопровідність	300 Вт·м-1·K-1
Теплове розширення (CTE)	4,5×10-6K-1

SEM data and structure of CVD SIC films

View as

Спідниця з покриттям CVD SiC

VeTek Semiconductor є провідним виробником, новатором і лідером CVD SiC Coating і TAC Coating в Китаї. Протягом багатьох років ми зосереджувалися на різноманітних продуктах з покриттям CVD SiC, таких як спідниця з покриттям CVD SiC, кільце покриття CVD SiC, носій для покриття CVD SiC тощо. VeTek Semiconductor підтримує індивідуальні послуги та задовільні ціни на продукцію, і з нетерпінням чекає на ваше подальше консультація.

Детальніше Надіслати запит

УФ-світлодіодний епі-суцептор

Як провідний китайський виробник напівпровідникової продукції та лідер, VeTek Semiconductor протягом багатьох років зосереджується на різних типах чутливих пристроїв, таких як UV LED Epi Susceptor, Deep-UV LED Epitaxial Susceptor, SiC Coating Susceptor, MOCVD Susceptor тощо. VeTek Semiconductor прагне надавати передові технології та продуктові рішення для напівпровідникової промисловості, і ми щиро сподіваємось стати вашим партнером у Китаї.

Детальніше Надіслати запит

Перегородка з покриттям CVD SiC

CVD SiC Coating Deffle від Vetek Semiconductor в основному використовується в епітаксії Si. Зазвичай використовується з силіконовими подовжувачами. Він поєднує в собі унікальну високу температуру та стабільність CVD SiC Coating Baffle, що значно покращує рівномірний розподіл повітряного потоку у виробництві напівпровідників. Ми віримо, що наша продукція може запропонувати вам передові технології та високоякісні продуктові рішення.

Детальніше Надіслати запит

CVD SiC графітовий циліндр

CVD SiC-графітовий циліндр від Vetek Semiconductor є ключовим у напівпровідниковому обладнанні, слугуючи захисним екраном у реакторах для захисту внутрішніх компонентів при високих температурах і тиску. Він ефективно захищає від хімічних речовин і сильної спеки, зберігаючи цілісність обладнання. Завдяки винятковій стійкості до зносу та корозії, він забезпечує довговічність і стабільність у складних умовах. Використання цих чохлів покращує продуктивність напівпровідникових пристроїв, подовжує термін служби та зменшує вимоги до обслуговування та ризики пошкодження. Ласкаво просимо до нас.

Детальніше Надіслати запит

Насадка для покриття CVD SiC

Насадки CVD SiC Coating від Vetek Semiconductor є ключовими компонентами, які використовуються в процесі епітаксії LPE SiC для нанесення карбідних матеріалів кремнію під час виробництва напівпровідників. Ці насадки зазвичай виготовляються з високотемпературного та хімічно стійкого карбіду кремнію, щоб забезпечити стабільність у суворих умовах обробки. Розроблені для рівномірного нанесення, вони відіграють ключову роль у контролі якості та однорідності епітаксіальних шарів, вирощених у напівпровідникових додатках. З нетерпінням чекаємо налагодження довгострокової співпраці з вами.

Детальніше Надіслати запит

CVD SiC протектор покриття

Vetek Semiconductor надає CVD SiC Coating Protector, який використовується для LPE SiC епітаксії. Термін «LPE» зазвичай відноситься до епітаксії під низьким тиском (LPE) у хімічному осадженні з парової фази під низьким тиском (LPCVD). У виробництві напівпровідників LPE є важливою технологічною технологією для вирощування монокристалічних тонких плівок, які часто використовуються для вирощування кремнієвих епітаксійних шарів або інших напівпровідникових епітаксійних шарів. Будь ласка, не соромтеся звертатися до нас, щоб отримати додаткові запитання.

Детальніше Надіслати запит

<...2 3 4 5 6...12 >

Як професійний Покриття з карбіду кремнію виробник і постачальник у Китаї, ми маємо власну фабрику. Незалежно від того, чи потрібні вам індивідуальні послуги відповідно до конкретних потреб вашого регіону, чи бажаєте придбати вдосконалений і міцний Покриття з карбіду кремнію, виготовлений у Китаї, ви можете залишити нам повідомлення.